couche de silicium de déposition chimique en phase vapeur
- couche de silicium de déposition chimique en phase vapeur
- cheminiu gariniu būdu nusodintas silicio sluoksnis
statusas T sritis radioelektronika
atitikmenys: angl. chemical vapor deposition silicon
vok. chemische Gasphasenabscheidungssiliziumschicht, f
rus. слой кремния, полученный методом химического осаждения из паровой фазы, m
pranc. couche de silicium de déposition chimique en phase vapeur, f
Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“.
Kazimieras Gaivenis, Gytis Juška, Vidas Kalesinskas.
2000.
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